Главная страница » Форумы » Разговоры обо всём »

В МИЭТе по госконтракту разработают концепцию безмасочного фотолитографа — для выпуска микросхем 28 нанометров и ниже

Вслед за Зеленоградским наноцентром за разработку фотолитографа (степпера) для выпуска микросхем по современным проектным нормам взялся МИЭТ. По заказу Минпромторга за 670 миллионов рублей там будут разрабатывать концепцию безмасочного рентген-фотолитографа «на базе синхротронного и/или плазменного источника». Рассказываем подробно об этой разработке, которую, по мнению некоторых экспертов, надо было начинать лет пятнадцать назад.

1

Юрий ЕвстифеевИгнорировать сообщения этого пользователя
30 марта 2022

Нас е...т и мы крепчаем и в итоге побеждаем!

2

A TИгнорировать сообщения этого пользователя
31 марта 2022

Какое там "в итоге", рано ещё; если всё не похерится в высоких кабинетах и отчётах, будут ОКРы, внедрение и т.д. - будет здорово, а пока можно желать успеха несмотря ни на что.

Добавление ответа


Добавить ответ Предварительный просмотр

Добавить ответ

Добавить в мои подписки

Подпишитесь на получение новых сообщений в этой теме

E-mail рассылка