Главная страница » Форумы » Разговоры обо всём »
Первый российский фотолитограф создан в Зеленограде — он годится для выпуска чипов 350 нм
215221 Еремеев Олег
Две компании, Huawei и Semiconductor Manufacturing International Co. (SMIC), запатентовали технологию литографии самовыравнивающимся четырёхкратным рисунком (self-aligned quadruple patterning, SAQP) для производства микросхем по топологии 3 нанометра.
Форумы
- Разговоры обо всём 18865
- Дети и родители 1306
- Автомобили 443
- Недвижимость, ЖКХ, ремонт 549
- Работа и бизнес 255
- Спорт, фитнес, танцы 228
- Медицина, здоровье, красота 603
- Домашние животные и растения 299
|
|
Обсуждение материала Zelenograd.ru
«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», так анонсировал это знаковое для российской микроэлектроники событие чиновник министерства промышленности, по заказу которого Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) с 2022 года ведёт разработку. К концу 2024 года она должна завершиться созданием опытного образца фотолитографа для изготовления микросхем топологического уровня 350 нм. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года.