Главная страница » Форумы » Разговоры обо всём »

Первый российский фотолитограф создан в Зеленограде — он годится для выпуска чипов 350 нм

Обсуждение материала Zelenograd.ru

«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», так анонсировал это знаковое для российской микроэлектроники событие чиновник министерства промышленности, по заказу которого Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) с 2022 года ведёт разработку. К концу 2024 года она должна завершиться созданием опытного образца фотолитографа для изготовления микросхем топологического уровня 350 нм. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года.

1

215221 Еремеев ОлегИгнорировать сообщения этого пользователя
5 июня

Две компании, Huawei и Semiconductor Manufacturing International Co. (SMIC), запатентовали технологию литографии самовыравнивающимся четырёхкратным рисунком (self-aligned quadruple patterning, SAQP) для производства микросхем по топологии 3 нанометра.

Ответить Цитировать

Пожаловаться

Добавление ответа


Добавить ответ Предварительный просмотр

Добавить ответ

Добавить в мои подписки

Подпишитесь на получение новых сообщений в этой теме

E-mail рассылка

Форумы