Разработка фотолитографов — один из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования, сообщил ЗНТЦ. Программа реализуется при поддержке Минпромторга РФ.

«Наш проект направлен на разработку степпера для переноса на пластину рисунков с элементами размером до 130 нм, — рассказал Анатолий Ковалёв. — Разрабатываемое оборудование будет состоять из специального оптического устройства, в том числе системы загрузки фотошаблонов, камеры с высокой точностью стабилизации температуры и программного обеспечения».

При этом в процессе работы оборудования допускается возможность применения режима двойного или многократного применения фазосдвигающих фотошаблонов, добавил он. (В том числе, это даст возможность довести минимальные размеры конструкционных элементов при фотолитографии до уровня 65 нм).

Ключевым элементом создаваемой в ЗНТЦ системы станет отечественный лазер, работающий на длине волны 193 нм.

В ходе разработки Зеленоградский наноцентр сотрудничает с ведущими разработчиками и производителями микроэлектронного оборудования, в том числе с профильными белорусскими компаниями, отмечают в ЗНТЦ.

Два конкурса Минпромторга на разработку отечественных установок для печати микросхем на кремниевых пластинах (первый с уровнем топологии до 130 нм, второй — до 350нм) прошли осенью 2021 года. ЗНТЦ стал победителем обоих как единственный участник. Финальная стоимость контракта по первому конкурсу составила 5,7 млрд рублей, по второму — почти 1 млрд рублей. Основанием для выполнения опытно-конструкторских работ названа государственная программа «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности».

«В России за 5,7 миллиарда создадут оборудование для печати процессоров по технологии 17-летней давности» — под таким заголовком в ноябре вышла публикация CNews.

Однако в материале приводится мнение эксперта: микросхемы с топологическим уровнем 130-65 нм вполне востребованы на российском рынке. «Технология 130-65 нм, несмотря на свой внушительный возраст, […] в частности, применяется при производстве современных микроконтроллеров и периферийных микросхем. Такие полупроводниковые изделия используются в автомобильной электронике, устройствах интернета вещей (например, счетчики электроэнергии), кассовом оборудовании», — цитирует издание исполнительного директора Ассоциации разработчиков и производителей электроники Ивана Покровского.

По мнению Покровского, реализация проекта потребует совместных усилий отечественных предприятий. И даже после этого радиоэлектронная отрасль не станет независимой от импорта — России еще долгие годы придется приобретать фоторезисторы и кремниевые пластины за рубежом.

«Технология 65 нм, хотя и вышла на рынок еще в 2006 году, востребована для интернета вещей, кассового оборудования и автомобильной электроники, говорят эксперты. Проект, по их мнению, может снизить зависимость от импортных установок, но о полном замещении говорить рано», — писал «Коммерсант».

По данным источника «Коммерсанта», близкого к Минпромторгу, в России не выпускается оборудование для фотолитографии, а его приобретение за рубежом затрудняют санкции.