«Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», так анонсировал это знаковое для российской микроэлектроники событие чиновник министерства промышленности, по заказу которого Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) с 2022 года ведёт разработку. К концу 2024 года она должна завершиться созданием опытного образца фотолитографа для изготовления микросхем топологического уровня 350 нм. Запустить серийное производство этого оборудования в ЗНТЦ планируют к концу 2025 года.

«Чипы размером 350 нанометров хоть и считаются большеразмерными, но до сих пор используются во многих отраслях, в том числе в автопроме, энергетике и телекоммуникациях» , — комментирует ТАСС уровень первого фотолитографа.

Фотолитограф (степпер) для изготовления микросхем 350 нм — это установка весом в 3.5 тонны и габаритами 2х2.6х2.5 метров (оптико-механическое устройство, объектив лазера с рабочей длиной волны 365 нм) плюс управляющий комплекс. Внутри проходят процессы фотолитографии: индивидуальная обработка кремниевых пластин (диаметром 150 и 200 мм) с автоматической загрузкой и выгрузкой их из кассет.

Два конкурса Минпромторга на разработку отечественных установок для печати микросхем на кремниевых пластинах (первый с уровнем топологии до 130 нм с перспективой его последующей модернизации до топологического уровня 65нм, второй — до 350нм) прошли осенью 2021 года. ЗНТЦ стал победителем обоих как единственный участник. Финальная стоимость контракта по первому конкурсу составила 5,7 млрд рублей, по второму — почти 1 млрд рублей. Разработка фотолитографов — один из первых проектов госпрограммы по локализации в России технологической цепочки производства микросхем с топологическими нормами 350…130 нм с использованием полностью российского оборудования, как сообщали в наноцентре.

«В рамках проекта по разработке фотолитографа на 350нм мы берём готовый лазер — полупроводниковый, отечественный. Возможно, и зеленоградские компании, специализирующиеся на лазерных технологиях, в будущем смогут принять участие в поставках такого оборудования, для этого будет проведена отдельная конкурсная процедура» , — рассказывал «Зеленоград.ру» генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалев.

Партнёрами ЗНТЦ по разработке фотолитографа выступают российский производитель лазеров ЛАССАРД и белорусская компания «Планар», которая сохранила компетенции в области разработки фотолитографов еще со времен СССР. В начале 2023 года ЗНТЦ договорился с белорусским производителем микросхем «Интеграл» об условиях предзаказа на оборудование для фотолитографии с уровнем топологии 350 нм.

Сегодня подобное оборудование в мире выпускают всего три компании: голландская ASML, занимающий 84% рынка, и две японские компании — Nikon и Canon. «Стоимость отечественных фотолитографов, по нашим предварительным оценкам, должна быть ниже зарубежных, — прогнозировал Анатолий Ковалёв. — Но не только это важно. Сегодня импорт нового фотолитографического оборудования в Россию находится под серьёзными ограничениями, и в любом случае стране нужно решать задачу по разработке своих степперов, так как фотолитография — это основа любого технологического процесса в микроэлектронике».

Подробнее о ходе разработки первого российского фотолитографа в 2022 году и принципах действия этой установки рассказывал на телеканале «Культура» начальник центра разработки технологического оборудования и главный конструктор двух ОКР по созданию отечественных фотолитографов Дмитрий Калбазов.

Что касается фотолитографа на 130-65 нм, для него планируется разработать с нуля полностью отечественный лазер с длиной волны 193 нм и получить опытный образец степпера к концу 2026 года.